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  国家知识产权局信息数据显现，北京阿法龙科技有限公司请求一项名为“根据碳化硅衬底的接连深度突变的光栅结构及其制备办法”的专利，公开号CN121276675A，请求日期为2025年12月。

  专利摘要显现，本发明供给了一种根据碳化硅衬底的接连深度突变的光栅结构及其制备办法，该制备办法有以下过程：在碳化硅衬底上构成厚度突变的献身层；选用两步等离子刻蚀工艺进行刻蚀；经过等离子体抛光工艺将标明上进行抛光。本发明经过突变献身层与两步等离子刻蚀结合，在碳化硅衬底上完成高精度接连深度突变的光栅结构，以匹配RGB三色波长的衍射需求；消除了刻蚀过程中的微沟槽缺点，处理了传统工艺无法统筹深宽比和外表上的质量的难题，为单层全彩光波导量产供给了关键技术支撑；经过操控外表粗糙度，下降光波导传输损耗；并且产品良率得到提高，出产所带来的本钱下降，合适大规模出产。

  天眼查资料显现，北京阿法龙科技有限公司，成立于2017年，坐落北京市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1111万人民币。经过天眼查大数据分析，北京阿法龙科技有限公司共对外出资了1家企业，参加招投标项目14次，产业线条，此外企业还具有行政许可4个。

  声明：商场有危险，出资需谨慎。本文为AI根据第三方数据生成，仅供参考，不构成个人出资主张。